第718章 3微米(4/4)

正在安装的一套特殊的光刻机光路系统，心情激动。这东西花了东北光学所的同志不少时间，总算是在年底给弄出来了。这是一套3微米精度的光学系统！按照东北光学所同志们的说法，这东西是纯手搓，完全没有量产的可能，一年搓那么一两套就是极限了。不过高振东不在乎，有就行，不是什么东西都要用到高制程的。就好像他前世的光刻机，实际上IC出货量最大、应用最广泛的，是28nm以上的工艺，那才是在国民生产生活中无孔不入，随处可见的。14nm以下的，也就是手机Soc、高性能CPU、GPU在用。所以哪怕就只有一台，对于高振东来说也是足够的。和1274厂投产的10微米光刻机已经在向半自动、自动化生产改进不同，这东西没有自动化的必要，数量少，直接人工瞄着显微镜控制得了，再说了，10微米和3微米，自动化控制的难度也是不可同日而语的。